Por:
Hindawi Publishing Corporation
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Fecha:
2012
Se depositaron películas multicapa de carbono y nitruro de boro de nanoperiodo (C/BN)n, nitruro de boro y carbono (BN/C)n, nitruro de carbono y nitruro de boro de nanoperiodo (CN/BN)n, y nitruro de boro y nitruro de carbono (BN/CN)n ]con una estructura multicapa de 4 nm de periodo mediante pulverización catódica por radiofrecuencia (RF) sesgada. El sustrato utilizado para la deposición se colocó repetidamente frente a los blancos de grafito y nitruro de boro. Tanto la dureza a la nanoindentación como la resistencia al microdesgaste de las películas multicapa (CN/BN)n y (BN/CN)n cambiaron con el período de la capa. Las películas multicapa con un período de 4 nm presentaron la mayor dureza y resistencia al microdesgaste. Las características de procesamiento de las películas (C/BN)n y (BN/C)n con una estructura multicapa de 4 nm de período se investigaron utilizando un microscopio de fuerza atómica (AFM) conductivo con modulación de fuerza, que permite el registro cuantitativo de la corriente y la fuerza de fricción como funciones de la fuerza aplicada. Los resultados del procesamiento indicaron que las mediciones de la fricción y de la corriente superficial son métodos eficaces para investigar superficies nanoestructurales multicapa y que el método propuesto en este estudio para sistemas de procesamiento microelectromecánico tiene una gran precisión.